1. 総評

株式会社アルバックの2025年6月期（2024年7月1日～2025年6月30日）連結決算は、売上高・利益ともに前期比減少と厳しい結果となった。世界経済の不透明感や半導体・FPD業界の投資調整（パワーデバイス、EVバッテリー）が主因で、受注高も△12.6%と大幅減。真空応用事業は堅調も、真空機器事業の減速が全体を押し下げた。一方、営業CFは大幅改善し、自己資本比率向上で財務体質は強化。次期は半導体需要回復を見込み、業績予想は増益基調。

2. 業績結果

業績結果に対するコメント： 売上減は真空機器事業（売上1,990億50百万円、△6.2%）の半導体パワーデバイス・ディスプレイ・エネルギー関連装置の投資調整が主因。一方、真空応用事業（売上521億34百万円、+6.8%）は材料・表面分析機器が工場稼働率高で伸長。利益減は売上減に加えコスト増（棚卸資産増加等）。持分法投資益656百万円（+32.5%）が経常利益を支えた。受注高2,255億67百万円（△12.6%）で受注残高1,157億百万円と先行き懸念も、半導体先端分野は堅調。

3. 貸借対照表（バランスシート）

【資産の部】 | 科目 | 金額（百万円） | 前期比（％） | |-----------------------|---------------|-----------------| | 流動資産 | 270,077 | △3.1 | | 現金及び預金 | 98,951 | +2.7 | | 受取手形及び売掛金 | 84,738 | △17.9 | | 棚卸資産 | 71,118 | +5.3 | | その他 | 15,919 | △12.2 | | 固定資産 | 記載なし | - | | 有形固定資産 | 記載なし | - | | 無形固定資産 | 記載なし | - | | 投資その他の資産 | 記載なし | - | | 資産合計 | 375,062 | △3.6 |

【負債の部】 | 科目 | 金額（百万円） | 前期比（％） | |-----------------------|---------------|-----------------| | 流動負債 | 記載なし | - | | 支払手形及び買掛金 | 記載なし | - | | 短期借入金 | 記載なし | - | | その他 | 記載なし | - | | 固定負債 | 記載なし | - | | 長期借入金 | 記載なし | - | | その他 | 記載なし | - | | 負債合計 | 143,982 | △10.5 |

【純資産の部】 | 科目 | 金額（百万円） | 前期比（％） | |----------------------------|---------------|-----------------| | 株主資本 | 記載なし | - | | 資本金 | 記載なし | - | | 利益剰余金 | 記載なし | - | | その他の包括利益累計額 | 記載なし | - | | 純資産合計 | 231,080 | +1.4 | | 負債純資産合計 | 375,062 | △3.6 |

貸借対照表に対するコメント： 自己資本比率59.6%（前期56.7%、+2.9pt）と向上、自己資本223,465百万円（+1.3%）。流動比率は流動資産270,077百万円に対し流動負債詳細なしのため算出不可だが、受取債権減少（△185億23百万円）がキャッシュ増に寄与。有利子負債42,127百万円（△4,635百万円）と低水準で安全性高。資産減主因は受取手形・売掛金△185億23百万円、有形固定資産△28億24百万円。純資産増は利益剰余金+95億81百万円も為替換算調整△51億77百万円。

4. 損益計算書

損益計算書に対するコメント： 営業利益率10.6%（前期11.4%、低下）、経常利益率11.4%（同同率）。ROE詳細記載なし。コスト構造詳細不明だが、棚卸資産増・仕入債務減がCF圧迫要因。変動主因は売上減と投資調整。持分法投資益増で経常利益相対的に安定。

5. キャッシュフロー（記載があれば）

• 営業活動によるキャッシュフロー: 34,811百万円（前期17,162百万円）
• 投資活動によるキャッシュフロー: △10,800百万円（前期△19,524百万円）
• 財務活動によるキャッシュフロー: △14,215百万円（前期△2,784百万円）
• フリーキャッシュフロー: 24,011百万円（営業+投資） 現金及び現金同等物期末残高: 92,609百万円（+8,068百万円）。営業CF改善は売上債権減少・減価償却費。投資CF改善は取得支出減。

6. 今後の展望

• 会社が公表している業績予想: 2026年6月期売上高250,000百万円（△0.5%）、営業利益28,500百万円（+7.5%）、経常利益28,500百万円（△0.4%）、純利益20,000百万円（+19.9%）、EPS405.99円。真空機器事業1,945億円（△2.3%）、真空応用555億円（+6.5%）。
• 中期経営計画や戦略: 2031年6月期「バリューアッププラン」策定。半導体電子中心ポートフォリオ見直し、高成長・高収益化。
• リスク要因: 世界経済不透明、地政学リスク、為替・原材料変動、FPD・半導体市況。
• 成長機会: 生成AI・データセンター・EV・DX需要、半導体工場新増設。

7. その他の重要事項

• セグメント別業績: 真空機器事業（受注1,734億30百万円△16.3%、売上1,990億50百万円△6.2%、営業利益218億77百万円）；真空応用事業（受注521億37百万円+2.2%、売上521億34百万円+6.8%、営業利益45億33百万円+27.2%）。
• 配当方針: 連結配当性向35%以上目途、業績連動型。期末配当年1回。2025年6月期164円（配当性向48.4%、DOH3.6%）、次期同額。
• 株主還元施策: 安定配当重視。
• M&Aや大型投資: 記載なし。
• 人員・組織変更: 記載なし。
• その他: 会計方針変更有（詳細添付資料参照）、連結範囲変更なし。個別業績売上98,851百万円（△8.6%）、純利益14,059百万円（△2.2%）。